Τεχνολογία Λεπτών Υμενίων & Επιφανειακής Κατεργασίας Εκτύπωση
Συντάχθηκε απο τον/την Administrator   
Σάββατο, 28 Αύγουστος 2010 17:26

Τεχνικές Φυσικής Εναπόθεσης Aτμών (PVD): Τεχνικές εξάχνωσης (θερμική εξάχνωση, εξάχνωση δέσμης ηλεκτρονίων, τεχνολογία των διατάξεων εξάχνωσης), τεχνικές sputtering (rf & dc sputtering, magnetron sputtering, reactive sputtering), τεχνικές εναπόθεσης δέσμης ιόντων και εναπόθεσης υποβοηθούμενης από δέσμη ιόντων, γεωμετρία και τεχνολογία πλάσματος και δεσμών ιόντων, μοριακή επιταξία (συνθήκες μοριακής επιταξίας, δέσμες ιόντων και κυψέλες Knudsen). Εγκαταστάσεις εναπόθεσης μεγάλης κλίμακος και roll-to-roll. Επιφανειακή κατεργασία με πλάσμα και δέσμες ιόντων. Αλληλεπιδράσεις ιόντων-ύλης και επιφανειακές διεγέρσεις (χημικές και φυσικές). Χημική εναπόθεση ατμών (CVD), φυσικοχημεία επιφανειών και επιλεκτική χημική εναπόθεση (selective CVD). Τεχνικές και μέθοδοι μέτρησης και παρατήρησης των λεπτών υμενίων και νανο-στρώσεων. Εφαρμογές υμενίων (για προστασία επιφανειών, φωτοβολταϊκά, συσκευασία τροφίμων, οθόνες απεικόνισης, αυτοκινητοβιομηχανία, βιοανιχνευτές, κ.λ.π.). Εργαστηριακή εξοικείωση και εξάσκηση με τις διατάξεις εναπόθεσης και μέτρησης.

 


Διδάσκοντες: Σ. ΚασσαβέτηςΒ. Ζασπάλης, Α. Λασκαράκης, Χ. Γραβαλίδης

Διδακτικές Μονάδες: 3

Μονάδες ICTS: 7.5


Τελευταία Ενημέρωση στις Τρίτη, 19 Οκτώβριος 2021 07:55